公开拼图

两件边饰残片

《两件边饰残片》创作于Late 16th/early 17th century，作者或文化归属为Spain，现藏于芝加哥艺术博物馆。

96片约35分钟图案

历史与文明

作品与权利信息

艺术家: Spain
创作时间: Late 16th/early 17th century
许可: CC0 1.0 / AIC Open Access
署名信息: Two Border Fragments — Spain — Art Institute of Chicago — CC0 1.0 / AIC Open Access